作业帮HF siO2生成SiF4
来源：学生作业帮助网 编辑：作业帮 时间：2024/06/03 01:32:28
Si的相对介电常数为11.9,真空的为8.854e-14F/cm.相乘即为Si的介电常数.SiF4常温为气体,不太清楚气体的介电常数如何衡量.应该与摩尔浓度有关.低温下固态SiF4的介电常数不清楚.但
SiO2与HF的反应是这样的SiO2+4HF=SiF4(气体）+2H2OHF过量时,SiO2+6HF=H2SiF6+2H2O无论是SiF4还是H2SiF6都不属于盐盐是阳离子与酸根阴离子的结合,无论如
不是就是合金,叫铝汞齐
1、K3CuF6,淡绿色,没什么用途,只是为了证明+3价Cu存在比较稳定的化合物.至于YBa2Cu3O7,其晶体中含有平面正方形CuO4结构和四方锥CuO5结构,Cu并不都是+3价.2、2Ag(+)+
不好意思,我查了一下,“SiF4:-77、SiCl4:-90”这个数据有误.SIF4：-90,SICl4：-70楼主的问题应该解决了吧!
不是因为氢氟酸是弱酸不能分开写啊
你要啥意思?前一个反应有氟气,所以即使后面反应有气体产生也不需要加气体符号的后一个,通常这里的HF指的是氢氟酸,属于液体,所以反应后生成气体的话就需要加气体符号
这种物质的结构是：硅原子在内部,氟原子在外部.由于氟原子的本身原子体积特别小,有加上吸收的电子云,所以他的电荷密度特别大.所以这种物质的相互间如果距离太近的话就要排斥了.于是他们分子之间的距离就特别大
1因为有SiF4、SiCl4分子,而没有SiO2分子,SiO2是由一个个原子堆砌而成的.所以是原子晶体.2是根先减少吸水,导致了蒸腾作用的减少.SiF4、SiCl4里面是一个个的分子组成的,他们的分子
这种物质的结构是：硅原子在内部,氟原子在外部.由于氟原子的本身原子体积特别小,有加上吸收的电子云,所以他的电荷密度特别大.所以这种物质的相互间如果距离太近的话就要排斥了.于是他们分子之间的距离就特别大
首先,两种晶体的结构都是正四面体.二氧化硅的化学键是极性共价键,却更近似于离子晶体.氧原子与硅原子之间的价键向离子键过渡.SiO2中Si—O键的键能很高,所以在熔化破坏化学键的时候需要更多的能量.四氟
硅和碳同属于一族,但硅的性质没有碳活泼,含硅的气体多是一个硅原子的化合物,如：四氟化碳|四氟甲烷|CF4硅烷|Silane|SiH4三氯氢硅|SiCl3H四氟化硅|SiF4四氯化硅|SiCl4二氯二氢
嘿嘿因为SiF4会溶于氢氟酸中生成六氟合硅酸H2SiF6不会有SiF4气体出来
SiF4的沸点(℃)：-65(24.1kPa)所以SiF4常温下当然是气体了.
氟硅酸是难溶的,氨气与水作用显碱性,所以无法反应,难溶就不能电离氢离子了再问：Ϊʲô��ɹ������ͷ���أ�再答：��ͻ�ѧƽ���йأ���ɷ��������ʹ��ѧ��Ӧ����������
BF3是常见的缺电子体,中心B原子有空轨道,可以接受孤对电子SiF4是少见的价层可以扩展的分子,中心原子硅周围最多可以有六对电子CF4中的C是sp3杂化,价层已满,不能再接受孤对电子
氟化硅（SiF4）无色、有毒、有刺激性臭味的气体.SiCl4是固体
你看清楚二氧化硅是如何成键的!一个氧原子行成两个氧硅键,使硅氧可以无限连接下去,氟与氯只能得一个电子,行成一个键.
解题思路：您好同学是这个问题吗？设关于x一次函数y=a1x+b1与y=a2x+b2，我们称函数y=m（a1x+b1）+n（a2x+b2）（其中m+n=1）为这两个函数的生成函数．（1）请你任意写出一个
是复分解反应